技术编号:35807641
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及电镀技术领域,尤其涉及一种阳极装置及电镀设备。背景技术.在电镀铜工艺中,将待镀工件置于阴极,将电镀金属(例如铜等金属)置于阳极,通过电镀液形成的回路,将电镀金属离子输送至阴极以沉积于待镀工件的表层,形成目标厚度的金属膜。.然而,现有电镀阳极装置中,随着长时间的电镀,电镀金属表面会沉积阳极泥,阻碍电镀金属的氧化反应,其次,在阳极会析出电镀金属晶体,进而降低电镀金属工艺的电镀效率。例如,在阳极的电镀金属为磷铜,电镀液为硫酸铜时,磷铜在阳极分解为铜离子和磷离子,在长时间的电镀环境...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。