技术编号:3582535
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种生产鎓盐衍生物的方法,该衍生物可用作在利用UV线、KrF受激准分子激光束、ArF受激准分子激光束、F2受激准分子激光束、电子束、或X-射线进行照射时产生强酸的鎓型强酸产生剂;并涉及新的鎓盐衍生物。背景技术 近年来,伴随高密度安装半导体设备的潮流,已缩短了用于照相平版印刷-一种微处理方法-中曝光装置的光源的波长。最近,已研究使用KrF受激准分子激光束(248.4纳米)。因此,要求被用作光源的KrF受激准分子激光束照射的抗蚀剂材料对曝光具有高敏感...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。