技术编号:3585892
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般地涉及光吸收旋压玻璃材料,更具体地涉及可以引入旋压玻璃材料的吸收性化合物,其在光刻法中用作抗反射层,以及生产吸收性化合物的方法。背景技术为了满足更快性能的要求,集成电路设备部件的特征尺寸不断减小。具有较小部件尺寸的设备的制造在许多通常用于半导体制造的方法中带来了新的挑战。这些制造方法中最重要的一种是光刻法。长期以来已经认识到,通过光刻法生产的图案中的线宽度偏差可能源于从半导体片上底层反射的光的光学干涉。由于底层的表面形态引起的光致抗蚀剂厚度的偏差...
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