技术编号：35861320
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。光刻设备的对准运动台和光轴z轴垂直度校准方法、装置、设备及存储介质技术领域.本发明涉及光刻设备领域，尤其涉及一种光刻设备的对准运动台和光轴z轴垂直度校准方法、装置、设备及存储介质。背景技术.半导体光刻设备的制程的降低带来光刻设备的复杂和精密程度的大幅提升，测试校准作为贯穿光刻设备研发设计全过程中的重要流程。现有的测校设备存在体积庞大、设备复杂且成本高昂。需要一种全新的测校方法，解决光刻设备的校准复杂和高成本问题。发明内容.本发明的主要目的在于解决现有技术中光刻设备的校准复杂和高成本的问题。...
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