技术编号：35997058
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及显微成像技术领域,特别涉及一种单曝光多层微纳结构成像装置及方法。背景技术.多层微纳结构在光学领域中可用于各种光学调制，在微电子领域中可应用于芯片、半导体器件、储存器件中。在多层微纳结构成像技术中，需要同时实现高速、高分辨(横向与纵向分辨率小于μm)、低成本、多层成像和无损成像。现有的成像技术一般只能兼顾其中几项，无法同时满足多层微纳结构的所有成像要求，因此多层微纳结构的高速、高分辨、低成本、多层和无损成像意义重大。.当前多层微纳结构的三维成像技术主要是通过镜片上下运动扫描的方...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。