技术编号:3614384
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明为涉及树脂组合物的技术,还涉及通过将上述树脂组合物作为光致抗蚀剂的涂层使用而在半导体エ艺等中稳定地形成微细图形的方法。背景技术随着半导体器件的高集成化和高性能化、以及光刻エ艺的发展,各种光致抗蚀剂的开发也在加速。随着这些高集成化和高性能化的发展,与设计规则的微细化相对应的化学増幅型光致抗蚀剂也一起得到发展,但是其使用ArF光刻设备可实现的最小分辨率只有约0.05i!m。正因为如此,为了制造集成化的半导体元件而形成微细图时遇到困难,一直在研究各种方法。...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。