技术编号:3616718
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。倍半硅氧烷树脂相关申请交叉引用无背景技术由于半导体工业一直需要较小的特征尺寸,最近出现193nm光学平版印刷术作为 生产具有低于IOOnm特征的器件的技术。使用该较短光波长需要底部抗反射涂层(BARC) 以降低基材反射,并通过吸收通过光致抗蚀剂的光线阻抑光致抗蚀剂摆动固化(swing cure) 0可商购的抗反射涂层包含有机和无机基材料。通常,表现出良好耐蚀刻性的无机 ARC是CVD基,并具有极端形态学的全部积累缺点;另一方面,有机ARC材料用旋涂方法施 ...
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