技术编号：36193827
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型属于离子束沉积技术领域，尤其涉及一种离子束沉积系统的靶材装置。背景技术.离子束沉积(ibd)技术在光纤、计算机、通信、纳米技术、新材料、集成光学等领域发挥其强大的作用，理想的薄膜应该具有光学性质稳定、无散射和吸收、机械性能强和化学性质稳定等特征，而离子束沉积(ibd)正好提供了能够达到这些要求的技术平台，目前离子束刻蚀和沉积技术的应用领域不断地被拓宽，尤其是随着芯片集成度提高，关键尺寸缩小，高选择比以及精确的图形转移等工艺需求的提高，更突显了离子束沉积优点。.如图所示，离子束...
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