技术编号:3627871
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种化学放大型正型光刻胶组合物,其适于在使用不超过200nm的波长,特别是使用ArF准分子激光器作为光源的方法中使用,以及使用这种组合物的光刻胶图案形成方法。背景技术 常规地,其羟基用可酸离解的、溶解抑制基团保护的聚羟基苯乙烯或其衍生物,显示对于KrF准分子激光(248nm)具有高的透光度,被用作化学放大光刻胶的树脂组分。但是,目前,半导体元件的微型化取得了更大的进步,并且正在极力地追求开发使用ArF准分子激光(193nm)的工艺。对于使用ArF...
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