技术编号:3635040
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及(1)在同一分子内具有6员环内酯和降冰片烷环的化合物和其单体,(2)含有其单体作为构成单元的高分子化合物,(3)含有该高分子化合物的抗蚀剂材料,以及(4)使用该抗蚀剂材料的图形形成方法。背景技术 近年来,随着计算机以及家电制品所代表的数字机器的发展,操作演算数字或二维、三维图像数字处理量逐渐膨胀,需要大容量且高速的半导体器件。还有因特网等网络的发展,数字机器中所要求的处理能力日益提高。为了达到该要求,要求半导体器件的高密度以及高集中化,即图形标准...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。