技术编号:3644333
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种聚合物及包含该聚合物的抗蚀剂组合物。背景技术用于采用光刻工艺的半导体微组装(microfabrication)的抗蚀剂组合物含有产 酸剂,该产酸剂包含可通过辐射而产生酸的化合物。 在半导体微组装中,人们期望形成具有高灵敏度和高分辨率、并且具有较好图形 轮廓比如图形形状的图形,并且人们期待化学增幅抗蚀剂组合物可提供这样的图形。 US 2003/0099900 Al公开了一种具有由甲基丙烯酸(2_乙基-2-金刚烷)酯衍生 的结构单元和由对羟基苯...
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