技术编号:3646676
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物。 背景技术用于采用光刻法的半导体微型制造的光致抗蚀剂组合物含有酸生成剂,该酸生成 剂包含通过辐照产生酸的化合物。US 2003/0194639A1公开了一种包含2,6_ 二异丙基苯胺或氢氧化四丁基铵的光 致抗蚀剂组合物。发明内容本发明的目的是提供一种光致抗蚀剂组合物。本发明涉及下列内容<1> 一种光致抗蚀剂组合物,其包含树脂,酸生成剂和由式(Cl)表示的化合物权利要求1.一种光致抗蚀剂组合物,其包含树脂,酸生成剂...
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