技术编号:3647945
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种聚合物和一种含有该聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物。背景技术用于采用光刻(lithogmphy)法的半导体微型制造的化学放大型抗蚀剂 组合物含有酸生成剂,该酸生成剂包含通过辐照产生酸的化合物。在半导体微型制造中,适宜的是形成具有高分辨率和良好图案轮廓的 图案,并且期望化学放大型抗蚀剂组合物产生这样的图案。US 5968713 A公开了一种含有树脂的化学放大型抗蚀剂组合物,所述 树脂包含衍生自甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚垸酯的结构单元。US 6...
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