技术编号:36510577
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。等离子处理装置.本申请是申请日为年月日、申请号为.、发明名称为“等离子处理装置”的发明专利申请的分案申请。技术领域.本发明涉及一种等离子处理装置。背景技术.在半导体器件的制造工序中,不断要求对半导体装置中包含的组件的微细化、集成化的对策。例如,在集成电路、纳米机电系统中,进一步推进了构造物的纳米级化。.通常,在半导体器件的制造工序中,为了成形微细图案,使用了光刻技术。该技术是在抗蚀剂层上应用器件构造的图案,将通过抗蚀剂层的图案露出的基板选择性地蚀刻除...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。