技术编号:3656545
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请为中国专利申请98125176.5的分案申请。本发明涉及用于化学放大抗蚀剂的共聚物及包含此共聚物的抗蚀组合物。随着半导体装置集成化的提高,在光刻法中能够形成八分之一微米容量的精细结构的抗蚀剂需求急剧增大。使用ArF激发物激光(例如λ=193nm)的光刻法对设备提出超出10亿容量的要求。这种技术试图应用更远的紫外光(λ=248nm)代替传统的KrF激发物光。因此需要发展新的化学放大抗蚀组合物。一般地,对于使用ArF激发物激光,能够使用的化学放大抗蚀组合...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。