技术编号：36649061
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻胶，具体而言，涉及一种紫外光刻胶及紫外光刻胶图案化的方法。背景技术、现阶段，半导体行业中的极大规模集成电路均由光刻技术进行加工制造，光刻加工技术的分辨率和线宽直接决定了集成电路的集成度、良率和成本。光刻加工技术是指利用光刻胶在曝光光束下发生溶解度的变化，从而将掩膜版上的图形转移到曝光衬底上的一种微纳加工技术。光刻胶是一类对光或者射线敏感的混合材料，当前紫外光刻胶主要由成膜树脂、光敏剂、溶剂和其他一些添加剂等组成，其中成膜树脂是光刻胶的主体成分。、目前已商业化的紫外光刻胶是一种主...
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