技术编号：36653215
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及掩模坯料、转印用掩模、转印用掩模的制造方法以及显示装置的制造方法。背景技术、在fpd用掩模的领域，尝试使用具有半透光性膜(所谓的灰度掩模用半透光性膜)的灰度掩模(也称为多灰度掩模)来削减掩模张数(非专利文献)。、在此，如图()所示，灰度掩模在透明基板(透光性基板)上具有遮光部、透射部和灰度部。灰度部具有调整透射量的功能，为如下目的而形成，例如，如图()所示，形成了形成有灰度掩模用半透光性膜(半透光性膜)a′的区域的区域，以降低透射这些区域的光的透射量，降低该...
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