技术编号:3665815
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于化学增强的抗蚀组合物的聚合物,以及含有这些聚合物的抗蚀组合物。随着半导体器件的日益集成化,在照相平版印刷工艺中特别需要形成小于四分之一微米容量的精细图形。已有设想使用超过一千兆容量的ArF准分子激光器(例如,λ=193nm)设备的照相平版印刷工艺。这一工艺是想替代通常的使用远紫外线(例如,λ=248nm)的KrF准分子激光器。因此,需要发展新的化学增强的抗蚀组合物。通常,与ArF准分子激光器一起使用的化学增强的抗蚀组合物的前体条件如下(1)透...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。