技术编号:3669650
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于复合材料,具体涉及。背景技术蒙脱土在高分子中的充分剥离是实现高性能复合材料的关键技术。目前聚合物/蒙脱土复合材料的制备方法通常为以下两种一种是原位插层聚合方法,所谓原位插层法是指聚合物前驱体小分子首先插层到有机化插层处理的蒙脱土层间,在蒙脱土层间使小分子聚合,利用聚合时放出的大量热量,使蒙脱土膨胀而剥离,从而得到复合材料。另一种是熔融插层方法,所谓熔融插层法是指将熔融聚合物在高温高剪切力作用下与经过有机化插层处理的蒙脱土混炼,大分子链插入蒙脱土层...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。