技术编号：36740840
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及石墨化炉，尤其涉及一种半导体大硅片制造用等静压石墨的石墨化炉进料机构。背景技术、石墨化炉是一种用于高温处理材料的设备，常用于石墨化和碳化处理，半导体大硅片在制造时也需要用到石墨化炉，石墨化炉能够使单晶硅生长，并且通过精确的温度和气氛控制，能够使单晶硅保持较高的纯度和良好的结晶质量。、在采用立式石墨化炉对单晶硅进行生长处理时，因立式石墨化炉的炉口开设于设备顶端，因此石墨化炉在进料时需要人工爬楼梯手动放料或者使用吊机进行进料，人工手动进料效率低，且无法控制进料的位置，导致石墨化炉对单晶...
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