技术编号:3674743
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种抗蚀剂图案形成方法,依序包含(1)使用负型化学增幅型抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜,其中负型化学增幅型抗蚀剂组合物含有如下组分具有如在本说明书中所定义的由式(1)表示的重复单元的(A)聚合物化合物、(B)能够在用光化射线或辐射照射后产生酸的化合物以及(C)能够由酸的作用交联聚合物化合物(A)的交联剂;(2)使抗蚀剂膜曝光,从而形成经曝光的抗蚀剂膜;以及(4)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的抗蚀剂膜显影。专利说明抗蚀剂图案形成方法、抗蚀剂图案、使用...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。