技术编号:36775263
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用混床式离子交换装置从含有二氧化硅的被处理水制造纯水的纯水制造方法以及纯水制造装置。背景技术、一般而言,在半导体制造工厂等中所使用的纯水(超纯水)是使用具备预处理装置、一次纯水制造装置以及对一次纯水进行处理的子系统的纯水制造装置而制造的。、预处理装置将上下水、地下水等原水中所含的悬浮物质通过凝聚、沉淀、过滤来进行去除,并由具有反渗透膜以及离子交换装置的一次纯水制造装置去除原水成分的~.%来生成一次纯水。上述子系统通过去除残留在一次纯水中的极微量的离子、胶体成分来生成超...
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