技术编号:3686743
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般性地涉及硅基光致抗蚀剂组合物,其可以用于形成适合用于电子器件的低k介电常数材料,它们的使用方法和由它们制得的电子器件。专利说明低介电可光致成像组合物以及由其制得的电子器件 [0001] 本发明一般性地涉及可以用于形成适合用于电子器件的低k介电常数材料的硅 基光致抗蚀剂组合物,它们的使用方法和由它们制得的电子器件。 背景技术 [0002] 随着电子器件变得越小,电子器件工业中持续希望增加电子组件,例如集成电路、 线路板、多芯片模块、芯片试...
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