光刻用共聚物及其制造方法、抗蚀剂组合物以及基板的制造方法技术资料下载

技术编号:3686983

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一种光刻用共聚物,具有含有酸离去基团的单体单元和不含酸离去基团的单体单元,将在通过GPC得到的洗脱曲线中显示出共聚物涉及的色谱峰的洗脱液,按照洗脱顺序,分成体积均等的5个组分,其中,将最先洗脱的第1个至第4个的各组分中所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为N(v1)~N(v4)摩尔%、5个组分合计所含有的共聚物中的含有酸离去基团的单体单元的比率设为Nave摩尔%时,N(v1)/Nave为1.01~1.09,N(v2)/Nave、N(v3)/N...
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