技术编号:36878065
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光伏溅射镀膜试验机设备,具体为一种新型的光伏溅射镀膜试验机。背景技术、溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面,把靶材的原子被击出的现象称为溅射,溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜,通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体,击出阴极靶体原子或分子,飞向被镀基体表面沉积成薄膜,人们开发出了溅射速率较高的射频溅射、三极溅射和。、现有的光伏溅射镀膜试验机,多采用基片在上,平面靶在下,安装在腔体底板上,通过波纹管伸缩调节靶基距,结构复杂,安装调试不便,且基片尺...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。