技术编号：3696306
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及。背景技术作为光学构件、记录媒体、半导体器件等的制造中在短时间内形成精细图案的方法，已知的有将表面具有该精细图案的反转图案的模具按压于被配置在基板表面的光固化性组合物，对该光固化性组合物照射光使该光固化性组合物固化，藉此在基板表面形成精细图案的方法(纳米压印法)(参照专利文献1、 2)。但是，该方法中，由于光固化性组合物的固化物与模具密合，因此很难将固化物与模具分离。所以，必须要在模具的表面涂布脱模剂。由于脱模剂本身的膜厚、脱模剂的涂布不均等，很...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。