技术编号：37013615
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及光掩模检查设备和使用光掩模检查设备检查光掩模的方法。背景技术、在制造半导体芯片或显示面板的工艺中，可使用光掩模执行光刻工艺以形成电路图案或线。在光刻工艺中使用的用于显示面板的光掩模像胶片投影仪的胶片一样使用，以在大玻璃衬底上形成电路图案或线。技术实现思路、在使用光掩模的光刻工艺中，当异物附着到光掩模或者使用具有缺陷的光掩模进行曝光工艺时，在待形成在衬底上的电路图案中发生缺陷，并且因此，在后续工艺中生产的半成品中导致缺陷。相应地，需要针对诸如异常或异物的粘附的缺陷来检查光掩模，并且需...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。