技术编号：3707092
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术发明领域本发明涉及一种用于制造绝缘薄膜的烷氧基硅烷/有机聚合物组合物。更具体地说，本发明涉及一种用于制造绝缘薄膜的烷氧基硅烷/有机聚合物组合物，该组合物含有(A)一种特殊的烷氧基硅烷；(B)一种特殊的有机聚合物；和(C)一种用于烷氧基硅烷(A)和有机聚合物(B)的溶剂，其中溶剂(C)含有选自由含酰胺键有机溶剂和含酯键有机溶剂所组成的组中的至少一种有机溶剂。在目前用于制造半导体装置的方法中，氧化硅绝缘层的制备方法包括将氧化硅前体溶解在一种合适的溶剂中...
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