技术编号:3707989
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在基本无水的液相操作条件下,制备基本上纯的包括均聚物,和共聚物如三元共聚物和四元共聚物的含羟基聚合物方法。然后这些聚合物被用于转化成诸如光致抗蚀剂。背景技术 工业上需要在用平版印刷技术制成的微电子装置上有较高的电路密度。一种增加每电路片上元件数量的方法是减小电路片上元件最小尺寸,这要求有较高的平版印刷分辨率。使用较短波长的辐射(如,远紫外线如190~315nm)比通常所用的中紫外线光谱范围(如350nm~450nm)提供了更高分辨率的可能性。...
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