技术编号:3709366
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术本发明涉及包含至少一种氟烯烃、至少一种具有稠合4-元环的多环烯不饱和单体和任选的其它组分的含氟聚合物。聚合物可用作光成像组合物,特别是光致抗蚀剂组合物(阳图制版和/或阴图制版),在制备半导体器械中用于成像。聚合物特别可用于具有高UV透明度(特别是在短波长处,如157纳米处)的光致抗蚀剂组合物中,作为光致抗蚀剂组合物的基料树脂,并可潜在地用于其它使用方面。人们很需要能用于在193纳米或更低波长,特别是157纳米处不仅具有高的透明性,而且还有其它合适的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。