技术编号:37187451
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及石墨烯制备领域,尤其是涉及等离子体辅助感应加热法制备石墨烯的装置。背景技术、气相沉积法是制备石墨烯的常用方法之一,制备时通常需要配合真空环境。因而常规的利用气相沉积法制备石墨烯的装置需要采用真空机制造真空的环境。、相关技术中的一种用于制备石墨烯的装置,制备出的石墨烯直接沉积在工件表面,制备和沉积过程中利用两组抽真空装置抽真空,其中一组抽真空装置用于维持沉积腔体内的真空度,利用气流带动石墨烯沉积在工件的表面。沉积腔内通过等离子体中的ar离子在电场作用下轰击工件,对工件进行等离子体清洗...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。