技术编号:37189471
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本技术涉及一种化工设备,尤其涉及一种分离设备。背景技术、二甲基二氯硅烷水解装置生产的氯化氢中含有聚硅氧烷,该聚硅氧烷随氯化氢气体被夹带至下游装置时,会造成下游装置和管路的频繁堵塞,因此,每隔一段时间,就需要停车检修下游装置,增加装置检维修费用,极大的影响下游装置稳定性。、而且,随氯化氢气体被带走的聚硅氧烷属于中间产品,会导致装置的单耗增加。、现有技术中,主要通过降低氯化氢的温度、增加除雾器等措施来降低氯化氢中聚硅氧烷含量,设备投资高,占地面积大,不利于设备布置。而且去除硅氧烷的效率也较低。...
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