技术编号:37226099
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及等离子体源,特别涉及一种微波传导装置、微波源以及离子发生装置。背景技术、等离子体源是一种用于产生等离子体的装置,通过将电磁能量馈入气体的电子,电子获能后加速运动并且与工作气体碰撞,将能量转移到工作气体从而导致气体发生电离,激发等一系列反应,最终获得等离子体。等离子体源在工业生产以及科学研究中有着广泛的用途。例如:在材料应用中,等离子体源可以用在表面改性,离子注入,电离反应气体等;在半导体的生产过程中,等离子体源可以辅助薄膜沉积,刻蚀,表面清洗等;在光学中,等离子体源也是一种重要的光源...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。