技术编号：37234451
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在本文中，本公开涉及用于分析薄膜的方法和用于分析薄膜的装置，并且更具体地，涉及用于具有等于或小于用于分析薄膜的装置的测量极限的厚度的薄膜的、用于分析薄膜的方法和用于分析薄膜的装置。背景技术、在需要薄膜形成技术的装置中，薄膜的薄的厚度和高的均匀性对保证装置性能优化、小型化和驱动可靠性是必要的。、通常，为了测量薄膜的厚度，使用将光入射在样品上并且分析其反射光的光学变化的方法。这样的方法具有的问题在于，由于厚度测量手段的测量极限而难以将该方法应用于具有等于或小于预定厚度的厚度的薄膜。相应地，如果在...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。