技术编号：37273335
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种利用柔性印模上的压印图案来压印抗蚀剂层的装置，以及用于这种装置的印模降落设备。背景技术、在ep a中公开的类型的压印光刻技术，作为更传统的基于掩膜的光学光刻技术的可行替代技术，正在获得关注，因为压印光刻技术有望在待大面积转移到衬底(例如半导体器件的衬底)上的图案中提供(更)小的特征尺寸。在诸如衬底共形压印光刻(“scil”)等压印光刻技术中，柔性印模(包括其表面的特征浮雕图案)与通常带有抗蚀剂材料的衬底接触。抗蚀剂材料由特征图案压印。随后，抗蚀剂材料显影(例如固化)...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。