技术编号：37278084
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于湿电子化学品，具体涉及一种电子级氟化铵水溶液的制备方法。背景技术、随着国内半导体制造行业逐渐兴起，国内对缓冲氧化蚀刻剂的需求量逐年增长。缓冲氧化蚀刻剂主要用于微电子行业，可作为清洗剂、蚀刻剂，在半导体工业中常用于蚀刻无光刻胶护罩的氧化层，其主要成分为氢氟酸和氟化铵，一般由电子级氢氟酸、电子级氟化铵水溶液以及添加剂配置而成。、目前电子级氟化铵水溶液制备方法最常用的是，将工业氨水蒸发、过滤除杂，再用高纯氢氟酸吸收制得。专利cnb用a型分子筛对氨气过滤除杂，专利cn...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。