技术编号：37340193
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。所公开的主题涉及用于预测由光刻曝光设备指示的实际发射图案的预测装置和方法。背景技术、光刻是在诸如硅晶片的衬底上图案化半导体电路的工艺。光刻光源提供紫外(uv)光束形式的uv光，用于曝光在光刻曝光设备中接收的晶片上的光致抗蚀剂。通常，光源包括激光源，并且激光源的输出是脉冲激光束。uv光束通过光束传输单元、掩模版或掩模，然后被投射到光刻曝光设备中制备的硅晶片上。以此方式，将芯片设计图案化到光致抗蚀剂上，接着对该光致抗蚀剂进行显影、蚀刻和清洁，并且接着重复过程。、通常，在深uv(duv)光源中，用...
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