技术编号：3734787
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及含有聚硅氧垸的低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法， 由该涂布液形成的低折射率被膜以及具有该被膜的防反射材料。背景技术一直以来，已知如果在基材的表面形成具有小于该基材的折射率的低 折射率的被膜，则从该被膜的表面反射的光的反射率降低。并且，上述显 示出降低了的光反射率的低折射率被膜被作为防光反射膜使用，用于各种 基材表面。例如，专利文献l揭示了形成防反射膜的方法，该方法是将作为Mg源 的镁盐或烷氧基镁化合物等与作为F源的氟化物盐反应生成的MgF2微...
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