技术编号：37353410
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光学超精密光刻领域，特别是涉及一种基于单重态-三重态吸收转换的超分辨光刻方法及装置。背景技术、现代社会的发展离不开信息技术，芯片作为信息技术的基础越来越重要，而光刻在芯片制造中属于至关重要的环节。同时光刻机作为人类最尖端精密制造技术的集大成者，是半导体工业皇冠上的明珠。、双光束超分辨光刻方法利用光刻胶或者掩膜对于不同波长激光的响应差异，实现刻写光束的尺寸压缩，从而实现小于衍射极限的超分辨纳米光刻。年menon课题组提出了基于吸收调制原理的双光束超分辨纳米光刻方法，该方法利用...
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