技术编号：3736168
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种化学机械法抛光用抛光膏，它可以用于抛光二氧化硅薄膜，特别涉及一种含季铵盐胶体二氧化硅型抛光膏。可以把抛光膏分为两类。一类包括以热解的二氧化硅悬浮体作为磨料，另一类包含胶体二氧化硅作为磨料。从热解的二氧化硅以及从胶体二氧化硅，也被称作二氧化硅溶胶的制备抛光膏的方法不一样。通过在水介质里分散热解的二氧化硅得到热解的二氧化硅悬浮体。对于包含胶体二氧化硅的抛光膏，可使用溶胶凝胶技术，由胶体二氧化硅的水溶液，例如，硅酸钠水溶液直接制备。在制备过程中，胶...
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