技术编号：37374664
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本技术涉及真空镀膜设备，具体涉及一种电晕真空镀膜一体装置。背景技术、真空镀膜是指在较高真空度下进行的镀膜，目前在对材料的表面进行镀膜时，由于材料本身材质的原因，其附着力较差，在直接进行真空镀膜时，会因为附着力的原因影响镀膜均匀性和镀膜效果，一般情况下会在真空镀膜前先对材料的表面进行预处理，如先进行电晕处理；电晕处理是利用高频率高电压在被处理的材料表面电晕放电，使被处理材料的表面变粗糙，增强被处理材料表面的附着力。、然而，现有的技术是在电晕机上对基膜进行电晕处理，再将电晕处理后的基膜放在真空镀...
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