技术编号:3739488
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种组合物(包括减反射涂料组合物或“ARC”),它可减少曝光辐照从 基材反射回到外涂敷的光刻胶层(overcoated photoresist layer)和/或作为平面化或 通孔填充(via-fill)层。更具体地,本发明涉及有机涂料组合物,特别是减反射涂料组合 物,它能够用水性碱显影剂显影,包括在显影外涂敷的光刻胶层过程的单步中。背景技术光刻胶是用于将图像转移到基材上的光敏膜。光刻胶涂层形成在基材上,然后将 光刻胶层通过光掩模暴露于活化辐照源...
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