技术编号:37428241
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及离子注入机源腔防护,尤其涉及一种对离子注入机源腔内部进行防护的装置。背景技术、离子注入机是高压小型加速器中的一种,主要用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入,是集成电路制造前工序中的关键设备,其主要由离子源、离子引出和质量分析器、加速管、扫描系统等部件组成,其中,离子源是离子注入机的主要部位,离子注入机利用离子源中灯丝产生的热电子在电场的作用下轰击气体分子,使之电离,离子源在长期使用后其腔室内腔会附着气体、涂层等附着物,而这些附着物会影响离子源的稳定性,因此,需要定期将离子源...
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