技术编号：37469215
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及薄膜沉积，特别是涉及一种加热系统及其控制方法、镀膜设备。背景技术、镀膜设备是能够提供沉积环境并容纳基片(如晶圆)，允许向沉积环境内通入反应气体以在基片表面沉积薄膜的设备。为实现沉积，镀膜设备还具有加热装置，当基片置于腔体内时，通常会利用设置在腔体内的加热器对基片进行加热。、在相关技术中，镀膜设备的加热器的加热以辐射传热为主，然而这种加热方式的加热效率不高，能耗高，且容易在局部产生较大的温差。技术实现思路、基于此，有必要针对上述的问题，提供一种提高加热效率、降低局部温差的加热系统及...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。