技术编号：3752264
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于使含氢氟酸(hydrogen fluoride)处理液再生而能够再利用的再生方法和再生装置。尤其是涉及用于使对含有硅的材料进行纹理加工、蚀刻加工等时使用的含氢氟酸处理液再生的方法和装置。背景技术多晶型硅基板、平板显示器用玻璃基板含有 硅以及氧化硅、氧化硼。为了对这些基板进行纹理加工、蚀刻加工等，使用高浓度的氢氟酸溶液、氢氟酸与硝酸的混合液、以及氢氟酸与盐酸/硫酸的混合液、氢氟酸与氟化铵的混合溶液等。在将含氢氟酸液体用于含硅材料的处理时，由于氢...
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