技术编号:37549078
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及硼扩散掺杂,且特别涉及一种硼扩散工艺及其装置。背景技术、目前,硼扩散掺杂是光敏二极管芯片制造中关键的工艺步骤之一,它用于在硅片上形成pn结,实现光电转换功能。然而,硼扩散掺杂的稳定性一直是一个研究和探索的重要问题。、在传统的硼扩散工艺中,一般采用预扩散和推进两个步骤在一次扩散中完成,为了阻挡后续磷扩散时元素与硼元素复合,还会增加湿氧氧化步骤。一般的氧化方式为将氧气通入加热至-℃的去离子水,通过鼓泡的方式将水汽携入管内以达到快速生长氧化层的目的,此种方法只需引一路氧气通到可恒...
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