技术编号:37554451
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及热处理设备,尤其是涉及一种沉积炉、生产设备及气相沉积制备方法。背景技术、在气相沉积制备原材料的工艺中,沉积结晶后的原材料的纯度需要达到设定纯度,否则会影响后续制备的产品的性能。以制备氧化亚硅为例,相关技术的沉积炉中,硅粉原料有一定几率随着硅蒸气被输送过程至沉积内,影响最终结晶的氧化亚硅的纯度,影响产品良率,需要多次气化沉积来确保产品纯度,影响制备效率。因此,有必要针对上述问题进行研究改进。技术实现思路、本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种沉积炉,能够...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。