技术编号：37554519
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米制造领域，尤其涉及一种环境气氛下多能场诱导原子级数控加工装置及方法。背景技术、制造技术经历了宏观手工制造、介观机械制造、微纳光学制造等阶段，当前半导体器件的制造工艺也已经走到了最前沿的 nm技术节点，随着信息器件朝着更小尺寸、更低功耗、更高性能的方向发展，制造技术必将进入原子尺度。以单原子精度实现材料去除或增加，打破现有物理极限，能够为量子芯片、冷原子干涉陀螺仪、航空耐热涂层等尺度极小、精度极高的器件加工制造提供解决方案，对国防军工、航空航天、集成电路、信息储存和能源医疗等国家...
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