技术编号:37556031
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种离子注入-薄膜沉积复合表面改性装置。背景技术、现有的离子注入-薄膜沉积复合装置,其结构大多如图所示,包括真空腔体,固定在真空腔体上的注入离子源、溅射离子源、靶材支架,位于真空腔体内的样品台。这种离子注入-薄膜沉积复合装置,其溅射离子源在薄膜沉积时产生的气态或固态物质存在污染注入离子源的风险,使注入离子源无法同时正常工作,影响设备的使用可靠性。此外,这种离子注入-薄膜沉积复合装置仅有一个真空腔体,在完成样品的离子注入-薄膜沉积工作后,需放气再取出样品,...
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