有机硅氧烷共聚物膜、其制造方法以及生长装置和使用该共聚物膜的半导体装置的制作方法技术资料下载

技术编号:3760190

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本发明涉及可以用于半导体元件以及连接其元件间的布线间绝缘的有机绝缘体膜的有机硅氧烷共聚物膜、其制造方法以及生长装置和使用该共聚物膜的半导体装置,更具体的讲涉及可以气相生长的有机硅氧烷共聚物膜和适用于半导体装置的该共聚物膜的气相生长方法。背景技术 半导体集成电路的设计规则逐渐趋向于缩小体积,而随之又出现了由于布线导致滞后所造成的性能劣化。也就是说,半导体集成电路的布线信号滞后取决于布线CR时间常数(C布线电容,R布线电阻),但是令人担忧的是,由于由布线宽度的...
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